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プラズマ照射で表面改質した樹脂基板のゼータ電位 NEW

基板表面の官能基や濡れ性を評価できます

図1にプラズマ照射前後の接触角を示します。プラズマ照射によって接触角が低下し濡れ性が向上していることが分かります。図2にプラズマ照射前後の固体表面のゼータ電位を示します。照射前は約-20mV、照射後は-60mV以上と固体表面のゼータ電位の絶対値が大きくなりました。これは、高分子表面がプラズマ照射によって水酸基(OH-)やカルボキシル基(COOH-)が生成されるため、負電荷のゼータ電位が増大したと考えられます。このように表面改質したサンプルの固体表面のゼータ電位を測定することで、接触角との相関性も良好で、基板表面の官能基や濡れ性の評価に有効であることが明らかになりました。

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