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膜厚計・厚み計

反射分光膜厚計

顕微分光膜厚計 OPTM series New

顕微分光を用いた微小領域での絶対反射率測定により、高精度な膜厚・光学定数解析が可能な装置です。
各種フィルムやウェーハ、光学材料などのコーティング膜の厚みや多層膜を非破壊・非接触で測定できます。測定時間は1秒/pointの高速測定が可能で初めての方でも簡単に光学定数の解析ができるソフトウェアを搭載しています。

反射分光膜厚計 FE-3000

顕微を用いた微小領域での絶対反射率の取得により、高精度な光干渉法による膜厚解析が可能な装置です。
半導体分野でのパターンサンプルや、レンズやドリルのような形状サンプルの他、表面粗さや膜厚ムラのあるサンプルなど、多種多様なサンプルの膜厚・光学定数解析が可能です。

膜厚モニター FE-300

高精度な光干渉法による膜厚測定を簡単操作で実現した小型で低価格な膜厚計です。
必要な機器を本体部に収納したオールインワンタイプの筺体を採用し、安定したデータの取得を実現しました。
低価格でありながらも絶対反射率の取得により、光学定数の解析も可能です。

組み込み型膜厚モニター FE-3

波長依存性を有する多層膜測定を高精度に実現!

膜厚測定用途マルチチャンネル分光器 MCPD series

紫外から近赤外領域対応の多機能マルチチャンネル分光検出器です。最短5msで分光スペクトル測定ができます。標準装置のオプティカルファイバーにより、サンプル種を特定することなく、さまざまな測定系に対応可能です。顕微分光、光源発光、透過・反射測定をはじめ、ソフトウェアとの組み合わせにより、物体色評価、膜厚測定などにも対応可能です。

分光エリプソメータ

分光エリプソメータ FE-5000/5000S

高精度な薄膜解析が可能な分光エリプソメトリーに加え、測定角度の自動可変機構を実装させることにより、あらゆる種類の薄膜にも対応しております。従来の回転検光子法に加え、位相差版の自動脱着機構を設けることにより、測定精度を向上させました。

ウェハ厚み計

分光干渉式ウェーハ厚み計 SF-3

ウェーハ基板の研磨プロセス、TTVコントロール中の厚みをリアルタイムに計測

450mmウェーハ厚検査装置 SF-450M

450mmウェーハマッピング、450mmウェーハイニシャル厚みに対応

顕微ウェーハ厚検査装置 SF-3000M

Si厚み・TSVビア裏面のSi厚みの測定が可能な顕微タイプ。仮貼り合わせSiおよびSOI等の各層の測定が可能。