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展示会・セミナー

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イベント名 Webセミナー【次世代半導体工程を支える大塚電子のソリューションご紹介】（2025年12月） セミナー
開催日 12月4日(木)
会場 Web（オンライン）
紹介文 半導体のさらなる微細化が限界に近づく中、新たな技術アプローチとして中間工程を含むアドバンストパッケージ工程が注目を集めています。 本セミナーでは、こうした業界の最新動向を踏まえ、大塚電子の計測・分析機器がどのように課題解決に貢献できるかをご紹介します。実際の測定事例や最新トピックスも交えながら、最先端のソリューションをわかりやすく解説します。
イベント名 SEMICON Japan 2025 展示会
開催日 12月17日(水)～19日(金)
会場 東京ビッグサイト
紹介文 2025年12月17日（水）から19日（金）まで、東京ビッグサイトで「SEMICON Japan 2025」が開催されます。
大塚電子のブースでは「ラインスキャン膜厚計」「光波動場三次元顕微鏡」をはじめ、顕微分光膜厚計など測定装置を展示致します。
各種資料を取り揃えて、皆様のご来場をお待ちしております。
イベント名 Webセミナー【ウェーハとスラリーとの静電相互作用の評価法と半導体プロセス技術の紹介】（2025年12月） セミナー
開催日 12月23日(火)
会場 Web（オンライン）
紹介文 半導体のCMP(研磨)プロセスにおける静電相互作用は、研磨レートやウェーハ表面の欠陥やパーティクルの発生に影響を与えます。そこでスラリーの分散性やウェーハ表面のゼータ電位を測定することで、その吸着性や洗浄性などの静電相互作用の評価法について解説します。また、半導体プロセスにおけるウェーハの品質評価技術として、当社が提供する膜厚や表面構造の評価例をご紹介します。
イベント名 Webセミナー【他では聞けない粒子径、ゼータ電位の測定原理と最新アプリケーションのご紹介】（2026年1月） セミナー
開催日 1月20日(火)
会場 Web（オンライン）
紹介文 粒子径・ゼータ電位の基礎を知りたい方必見！
原理がよくわからない、測定していて結果は出ているがどうやって測定しているのかわからない、
装置を検討するうえで勉強しておきたいなどの基礎的な知識習得を目的とした内容になっています。
さらに、粒子径・ゼータ電位のアプリケーションを最新機種ELSzneoのデータを交えてご紹介します。
イベント名 Webセミナー【光干渉法を原理とする膜厚測定装置を使いこなすためのノウハウ】（2026年2月） セミナー
開催日 2月19日(木)
会場 Web（オンライン）
紹介文 光を用いた計測・分析機器の開発で培った技術を活かし、先端技術を支える装置・測定技術・応用例を中心に解説するWebセミナーを開催いたします。
ぜひ、ご参加ください。

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