ロードポート対応膜厚測定システム GS-300
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                         パターンマッチ機能搭載、X-Y位置決め精度2um以下のシステムです。  | 
                
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- 製品情報
 - 仕様
 - 測定例
 
製品情報
特 長
- Φ300mmEFEMユニット予備ポートへのインテグレーションに対応
 - ウェーハに埋め込んだ配線パターンのパターンアライメントを実現
 - 半導体プロセスの高スループット要求に対応
 - ノッチアライメント機能に対応
 - 小フットプリント仕様
 
測定事例
- TSV埋め込みパターンウェーハの研削後Silicon厚み
 - Φ300mmサイズのウェーハ厚み
 
動 画
仕様
仕様

測定例
測定例
■研削後300mmウェーハ
![]()  | 
		
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			 Si層厚み分布(約771μm)  | 
		
- 製品情報
 - 仕様
 - 測定例
 
関連情報
関連製品
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                        分光干渉式ウェーハ厚み計 SF-3 | 
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                        超高速分光干渉式厚み計 | 
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                        組込み型膜厚モニター | 
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                        顕微分光膜厚計 OPTM series | 
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                        膜厚モニター FE-300F | 
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                        分光エリプソメータ FE-5000 series | 
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                        マルチチャンネル分光器 MCPD-9800/6800 | 


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