ホーム > 製品情報:計測機器 > インプロセス用評価機器 > 半導体プロセス > 分光干渉式ウェーハ厚み計 SF-3

分光干渉式ウェーハ厚み計 SF-3

ウェーハ等の研削研磨プロセスにおいて、非接触でウェーハや樹脂の厚みを超高速・高精度に測定を行います。

製品購入後お問い合わせ 製品に関するお問い合わせ

製品情報

動 画 測定から結果まで
 
特 長
  • 光学式により非接触・非破壊での厚み測定が可能
  • 高い測定再現性を実現
  • 高速でリアルタイムに研磨モニタが可能
  • 長いWD(ワークディスタンス)を実現し、機器への組み込みが容易
  • ホスト機器からLANを使用したTCP/IP通信で制御
  • 多層厚み測定が可能
  • テンポラリーウェーハ(仮貼り合わせウェーハ)の各層厚み測定が可能

5つの特長

 

測定項目
  • 厚み測定(5層)

 

用途
  • 各種ウェーハ(Silicon、その他化合物ウェーハ)厚み測定
  • 各種 研削・研磨・貼り合わせなどへのプロセスへの組み込み
  • ウェーハ以外の厚膜部材厚み測定

 

半導体プロセスへの組み込み例
■ テンポラリーボンディング

 

 

 

■ バックグラインド

 

バックグラインドトレンドグラフ

 

 

■ ウェットエッチング

 

 

 

■ CMPプロセス

 

 

 

仕 様

SF-3仕様

*1 : 当初基準サンプルAirGap約1000 μm測定時の相対標準偏差(n = 20)
*2 : WD80 mmプローブ仕様時の設計値

装置構成

 

マッピング

■300 mmウェーハ対応マッピングシステム

  • 微細パターンをアライメントし、ウェーハ厚みや各種厚み情報を提供
  • 高精度X-Y位置決めステージ(±2μm以下)を実装し、高精度な位置決めを実現
  • ウェーハ形状以外にも対応可能
  • 測定ポイント周辺の視野を確認可能
  • 半導体向け300mmウェーハ対応
  • MEMSやセンサーデバイス対応

 

 

測定例

測定例
サポートウェーハ付き仮貼り合わせウェーハ

Φ300 mm siliconウェーハ厚み測定

 

 

関連情報

関連製品

ロードポート対応膜厚測定システム GS-300

組込み型膜厚モニター

膜厚モニター FE-300F

超高速分光干渉式厚み計

顕微分光膜厚計 OPTM series

分光エリプソメータ FE-5000 series

マルチチャンネル分光器 MCPD-9800/6800

ページトップへ

X LinkdIn Youtube

大塚電子公式 SNS