光学式により、生産ラインにおいても非接触・非破壊での各種基板厚み測定が可能であり、長いWD（ワークディスタンス）を実現し、機器の組み込みが可能です。各種基材上の膜厚（例：WET膜、DRY膜、エアギャップ層、各種基材など）測定に最適で、散乱性の強いサンプルの測定も可能です。

様々な基板面内の膜厚分布（例：WET膜、DRY膜、エアギャップ層など）を高速測定可能な装置です。顕微分光を用いた微小領域での絶対反射率測定により、高精度な膜厚・光学定数解析が可能な装置です。
各種フィルムやウェーハ上のコーティング膜の厚みや多層膜を非破壊・非接触で測定できます。測定時間は1秒/ポイントの高速測定が可能です。また初めての方でも簡単に光学定数の解析ができるソフトウェアを搭載しています。

様々な基板面内の膜厚分布（例：WET膜、DRY膜、エアギャップ層など）を高速測定可能な装置です。顕微分光を用いた微小領域での絶対反射率測定により、高精度な膜厚・光学定数解析が可能な装置です。
各種フィルムやウェーハ上のコーティング膜の厚みや多層膜を非破壊・非接触で測定できます。測定時間は1秒/ポイントの高速測定が可能です。また初めての方でも簡単に光学定数の解析ができるソフトウェアを搭載しています。

顕微分光を用いた微小領域での絶対反射率測定により、高精度な膜厚・光学定数解析が可能な装置で、お客様のラインや測定ステージに組み込みが可能です。
様々な基板上のコーティング膜（例：WET膜、DRY膜、エアギャップ層など）の厚みや多層膜を非破壊・非接触で測定できます。測定時間は1秒/ポイントの高速測定が可能です。

生産現場において面内の膜厚分布（例：WET膜、DRY膜、エアギャップ層など）を漏れなく2次元測定できる装置です。独自の分光干渉法に新たに開発した高精度膜厚演算処理技術を組み合わせることで、最短0.01秒毎の測定間隔で500mm幅（1台使用時）の膜厚測定が可能です。

紫外から近赤外領域対応の多機能マルチチャンネル分光検出器です。最短5msで分光スペクトル測定ができます。標準付属のオプティカルファイバーにより、サンプル種を特定することなく、さまざまな測定系に対応可能です。顕微分光、光源発光、透過・反射測定をはじめ、ソフトウェアとの組み合わせにより、物体色評価、膜厚測定（例：WET膜、DRY膜、エアギャップ層など）にも対応可能です。

紫外可視（300～800nm）の波長領域でのエリプソパラメータ（tanψ、cosΔ）測定が可能なため、高精度な薄膜解析が可能です。測定角度の自動可変機構を実装させることにより、あらゆる種類の薄膜にも対応しております。従来の回転検光子法に加え、位相差板の自動脱着機構を設けることにより、測定精度を向上させました。
高精度な薄膜解析が可能な分光エリプソメトリーに加え、測定角度の自動可変機構を実装させることにより、あらゆる種類の薄膜にも対応しております。従来の回転検光子法に加え、位相差板の自動脱着機構を設けることにより、測定精度を向上させました。

各種基材への製膜（例：WET膜、DRY膜、エアギャップ層など）の研究開発や品質管理の抜き取り検査に、オフラインで簡単に漏れなく2次元測定できる装置です。全面を高速かつ高精度に測定可能です。

紫外から近赤外領域対応の多機能マルチチャンネル分光検出器です。最短5msで分光スペクトル測定ができます。標準付属のオプティカルファイバーにより、サンプル種を特定することなく、さまざまな測定系に対応可能です。顕微分光、光源発光、透過・反射測定をはじめ、ソフトウェアとの組み合わせにより、物体色評価、膜厚測定（例：WET膜、DRY膜、エアギャップ層など）にも対応可能です。

高精度な光干渉法による膜厚測定を簡単操作で実現した小型で低価格な膜厚計です。
必要な機器を本体部に収納したオールインワンタイプの筺体を採用し、安定したデータの取得を実現しました。（例：WET膜、DRY膜、エアギャップ層など）
低価格でありながらも絶対反射率の取得により、光学定数の解析も可能です。