Closeレジスト層の厚み（OPTM series）
フォトリソグラフィのために塗布したレジストが目的の厚みに成膜されているかを評価します。厚みが適切でないと、露光が不十分となり現像時にレジストが剥離できないなどの不良が生じます。光干渉式膜厚測定では非接触、非破壊、高精度での測定が可能なため成膜された厚みを評価するのに適しています。
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フォトリソグラフィ -
電極形成
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