インプロセス用評価機器

当社のMCPD series インラインフィルム評価システムは、光学式のため非接触・非破壊での膜厚、濃度、色などの検査が可能です。
測定可能膜厚範囲は　65nm～92μmと薄膜から厚膜まで対応しております。（屈折率1.5の場合）
測定原理は分光干渉方式のため、高い測定再現性を実現しつつ多層厚み測定にも対応しております。独自アルゴリズムの採用により高速でリアルタイムにモニタリングが可能なため、インラインフィルムモニターとして最適なシステムをご提案いたします。

インラインでのフィルム生産現場においてフィルムの膜厚を全幅・全長測定できる装置です。
独自の分光干渉法に新たに開発した高精度膜厚演算処理技術を組み合わせることで、最短0.0０1秒毎の測定間隔で500mm幅（1台使用時）のフィルムの膜厚測定が可能です。

OLED用偏光板、積層位相差フィルム、IPS液晶位相差フィルム付偏光板など、あらゆるフィルムに対応したリタデーション測定装置です。
超高Re.60000nmに対応の高速・高精度測定を実現。
フィルムの積層状態を“剥がさず、非破壊”で測定可能です。
さらに、操作面でもかんたんソフトウェアや、サンプルの置き直しによるズレに対応した補正機能を搭載し、手軽に高精度な測定ができます。

光軸の高精度管理！ 3σ≦0.02°
低リタデーション測定に

ウェーハ等の研削研磨プロセスにおいて、非接触でウェーハや樹脂の厚みを超高速・高精度に測定を行います。

波長依存性を有する多層膜測定を高精度に実現！

波長依存性を有する多層膜測定を高精度に実現！

ウェーハ等の研削研磨プロセスにおいて、非接触でウェーハや樹脂の厚みを超高速・高精度に測定を行います。

パターンマッチ機能搭載、X-Y位置決め精度２um以下のシステムです。
 

【 この装置の動画はこちら 】

当社のMCPD seriesは、フレキシブルファイバーを採用することにより、In-Situからインラインまで様々な場所や用途への組込みが可能になっております。
測定原理は分光干渉方式のため、高い測定再現性を実現しつつ多層厚み測定にも対応しております。独自アルゴリズムの採用により高速でリアルタイムにモニタリングが可能です。

半導体の研究開発や生産現場において、ウェーハ基板上の薄膜を全面測定できる装置です。

独自の分光干渉法と新たに開発した高精度膜厚演算処理技術を組み合わせることで、12inchウェーハの面内分布を高速に測定することが可能です。

LEDの光学特性評価を、生産ラインの制御信号と同期させインラインで高速におこなうことができる装置です。
LE-5400は、NG判定や級別分類など品質管理に必要な光学特性情報を提供します。

波長依存性を有する多層膜測定を高精度に実現！

カラーフィルタの光学特性検査やガラス基板上膜の膜厚検査など FPD生産工程中のあらゆる検査に最適です。

反射型・透過型タイプの液晶封入済みセルからカラーフィルタ付空セルまで幅広く対応

OLED用偏光板、積層位相差フィルム、IPS液晶位相差フィルム付偏光板など、あらゆるフィルムに対応したリタデーション測定装置です。
超高Re.60000nmに対応の高速・高精度測定を実現。
フィルムの積層状態を“剥がさず、非破壊”で測定可能です。
さらに、操作面でもかんたんソフトウェアや、サンプルの置き直しによるズレに対応した補正機能を搭載し、手軽に高精度な測定ができます。