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【応用】 ゼータ電位の測定データいろいろ
5.シリコンウエハー表面のpHタイトレーション
半導体産業におけるウエハー表面への異物の付着の防止は、最も重要な研究の１つと言われています。このため、汚染物質とウエハー表面の静電的な関係を知ることは汚染を防ぐと共に洗浄効率を上げるための有効な手段と言えます。
ここで、ウエハー表面はpH3～11の範囲で負に帯電していることが判ります。汚染物質がアルミナを仮定すると、pH3～9の範囲で互いの電荷の符号が異なっているため、極めてウエハー表面に付着しやすく、除去しにくいことが容易に推測されます。
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