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Webセミナー【半導体市場向け膜厚測定】(2021年5月) 無料

光を用いた各種分析装置を開発してきました大塚電子が、先端技術をサポートする分析装置と、その測定技術、応用例などについてWebセミナーを開催いたします。
ぜひ、ご参加ください。

●名称

Webセミナー【半導体市場向け膜厚測定】(2021年5月)

●日時

2021年5月13日(木) 15:00~16:00 (開始5分前よりアクセス可能です)

 ※お申込は5月13日(木)10時で締め切らせていただきます。
 ※参加URLは開催日1週間前頃、前日、当日に申込者の方にお送りいたします。

※ 参加申込みは締め切らせていただきました。

●会場

Webセミナー(オンラインセミナー)

●参加費

無料

●担当者

西井・岡本
webseminar@otsukaele.jp

【Seminar】15:00~16:00

半導体市場においてロードポート膜厚計が実現する超高速・高精度マッピング測定

成膜、加工プロセスご担当者様に"新技術"をご提案。
超高速・高精度にウェーハの厚み分布を測定し品質向上を実現します。
更にΦ300mmEFEMユニット予備ポートへのインテグレーションに対応する事でウェーハ搬送のムダをカットし工程削減も実現します。

 

ロードポート対応膜厚測定システム GS-300   分光干渉式ウェーハ厚み計 SF-3
ロードポート対応膜厚測定システム   分光干渉式ウェーハ厚み計

ご視聴方法


本セミナーは「Micorosoft Teams」を使用します。
参加申込みいただいた方に、後日視聴用URLをご連絡いたします

インターネット環境のあるパソコン・タブレット・スマートフォンがあれば、どこからでも参加可能です。
 ※パソコン・タブレットの場合は、ブラウザで参加可能です
   推奨ブラウザ:Micorosoft Edge または Google Chrome
 ※スマートフォンの場合は、Teamsアプリをインストールする必要があります

注意事項

・セミナーの録音や録画は固くお断りさせていただきます。
同業者のご登録はご遠慮いただいておりますのでご了承ください。

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