概要
CVD法、PVD法など各種製膜手法で成膜されたゲート電極層(多結晶Si膜など)、ゲート絶縁膜(酸化膜、窒化膜など)、層間絶縁膜(酸化膜)、レジスト膜などの膜厚管理が必要になります。
ナノレベルからの高精度な膜厚測定や膜質測定(光学定数)を提供します。
活用例
CVD法、PVD法など各種製膜手法で成膜されたゲート電極層(多結晶Si膜など)、ゲート絶縁膜(酸化膜、窒化膜など)、層間絶縁膜(酸化膜)、レジスト膜などの膜厚管理が必要になります。
ナノレベルからの高精度な膜厚測定や膜質測定(光学定数)を提供します。
「大塚電子会員サイト」では、様々なサービスをご利用いただけます。
皆様の専門知識の向上と実務のサポートを目指して、今後も様々なコンテンツを提供してまいります。
詳しくはこちら
製品カタログ・技術資料・
ダウンロード
Webセミナーや製品紹介など
会員限定動画が更新中
技術相談や測定支援・受託分析
予約受付
お気軽にご依頼・ご相談ください


