概要

In-line膜厚測定

CVD法、PVD法など各種製膜手法で成膜されたゲート電極層(多結晶Si膜など)、ゲート絶縁膜(酸化膜、窒化膜など)、層間絶縁膜(酸化膜)、レジスト膜などの膜厚管理が必要になります。
ナノレベルからの高精度な膜厚測定や膜質測定(光学定数)を提供します。

ウェーハ表面酸化/配線パターニング/ウェーハテスト

デモ・試分析・お見積・ご相談

東日本042-644-4951
西日本0748-63-5456