超高速分光干渉式厚み計

ウェーハ等の研削研磨プロセスを非接触でウェーハや樹脂の超高速リアルタイム・高精度 に測定します。
測定項目
  • 厚み測定(5層)
用途
  • 各種電子部品
  • 光学材料
  • 半導体関連
  • 自動車関連
  • 電池・エネルギー関連
  • ウェアラブルデバイス
  • 医用関連
  • ディスプレイ関連
特長
  • 非接触、非破壊で厚み測定が可能
  • 反射光学系(片側からのコンタクトで測定が可能)
  • 高速性(最速5kHz)且つリアルタイム評価が可能
  • 高い安定性(繰返し精度 0.01%以下)を実現
  • 粗さに強い
  • 任意距離に対応が可能
  • 多層構造に対応(最大5層)
  • NGデータ排除機能を内蔵

超高速分光干渉式厚み計とは

ウェーハ等の研削研磨プロセスを非接触でウェーハや樹脂の超高速リアルタイム・高精度 に測定します。

測定項目

厚み測定

(5層)

用途

各種電子部品

  • 水晶デバイスSAWデバイス記録媒体

光学材料

  • レンズフィルター樹脂

半導体関連

  • ウェーハ貼り合わせ樹脂モールド樹脂

自動車関連

  • ガラス代替樹脂

電池・エネルギー関連

  • 電解質膜ベースフィルム保護ガラス

ウェアラブルデバイス

  • 防水膜光学材料

医用関連

  • 輸液パックカテーテル経皮製剤

ディスプレイ関連

  • ガラスベースフィルム封止材

特長

  • 非接触、非破壊で厚み測定が可能
  • 反射光学系(片側からのコンタクトで測定が可能)
  • 高速性(最速5kHz)且つリアルタイム評価が可能
  • 高い安定性(繰返し精度 0.01%以下)を実現
  • 粗さに強い
  • 任意距離に対応が可能
  • 多層構造に対応(最大5層)
  • NGデータ排除機能を内蔵
超高速分光干渉式厚み計 特長

Point1:独自の技術で

幅広い範囲の膜厚に対応するとともに、高い波長分解能を実現。 大塚電子独自の技術をコンパクトボディに詰め込みました。

超高速分光干渉式厚み計 特長 point1

Point2:高速対応

移動する測定対象でも正確なピッチで測れるので、 工場の生産ラインにも最適です。

超高速分光干渉式厚み計 特長 point2

Point3:
さまざまな表面状態のサンプルに対応

約φ20μmという微小スポットにより、 さまざまな表面状態のサンプルにおいても、厚み測定が可能です。

超高速分光干渉式厚み計 特長 point3

Point4:さまざまな環境に対応

最大200mmまで離れた位置からでも測定可能なため、
目的や用途に応じた測定環境を構築可能です。

超高速分光干渉式厚み計 特長 point4

基本構成

仕様

型式 SF-3/200 SF-3/300 SF-3/800 SF-3/1300
サイズ 123(W)×224(D)×128(H)mm
シリコン測定厚み範囲 6~400 μm 10~775 μm 20~1000 μm 50~1300 μm
樹脂厚み範囲 10~1000 μm 20~1500 μm 40~2000 μm 100~2600 μm
最小サンプリング周期 5 kHz(200 μ sec)
繰り返し精度 0.01%以下(※1)
測定スポット径 φ20 μm以上(※2)
測定距離 50、80、120、150、200 mm
光源 半導体光源(レーザークラス3B製品)
解析方法 FFT解析
インターフェイス LAN、I/O入手知力端子
電源 DC24 V仕様(AC電源ユニット別売り)
オプション 各種距離測定プローブ、電源ユニット(AC用)、アルミリファレンス、
測定光検出ターゲット、ファイバークリーナー

※1 : 当初基準サンプルAirGap約1000 μm測定時の相対標準偏差(n = 20)

※2 : WD80 mmプローブ仕様時の設計値

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