製品カテゴリ
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- 膜厚評価機器
- 三次元顕微鏡
製品一覧
超高速分光干渉式厚み計
特長
- 非接触、非破壊で厚み測定が可能
- 反射光学系（片側からのコンタクトで測定が可能）
- 高速性（最速５ｋHz）且つリアルタイム評価が可能
- 高い安定性（繰返し精度 0.01％以下）を実現
- 粗さに強い
- 任意距離に対応が可能
- 多層構造に対応（最大5層）
- NGデータ排除機能を内蔵
測定項目
- 厚み測定（５層）
用途
- 各種電子部品
- 光学材料
- 半導体関連
- 自動車関連
- 電池・エネルギー関連
- ウェアラブルデバイス
- 医用関連
- ディスプレイ関連
膜厚測定用途マルチチャンネル分光器MCPD series
特長
- 用途に応じた多彩な検出器をラインアップ
- 通信インターフェースはUSBとLANに対応可能
- 高速・高感度に光スペクトルを測定
- オプティカルファイバーによる自由な光学系
色測定用途マルチチャンネル分光器 MCPD series
特長
- 用途に応じた多彩な検出器をラインアップ
- 通信インターフェースはUSBとLANに対応可能
- 高速・高感度に光スペクトルを測定
- オプティカルファイバーによる自由な光学系
反射率測定用途マルチチャンネル分光器 MCPD series
特長
- 用途に応じた多彩な検出器をラインアップ
- 通信インターフェースはUSBとLANに対応可能
- 高速・高感度に光スペクトルを測定
- オプティカルファイバーによる自由な光学系
透過率・吸光度測定用途マルチチャンネル分光器MCPD series
特長
- 用途に応じた多彩な検出器をラインアップ
- 通信インターフェースはUSBとLANに対応可能
- 高速・高感度に光スペクトルを測定
- オプティカルファイバーによる自由な光学系
インラインフィルム評価システムMCPD series
特長
- プロセス中の薄膜高速測定に最適
- 最短露光時間1ms～※
- リモート測定に対応
- 膜厚測定範囲65nm～92μm（SiO2換算）
高速リタデーション測定装置RE-200
特長
- 0nmからの低（残留）リタデーション測定が可能
- 光軸検出と同時にリタデーション(Re.)の高速測定が可能（世界最速相当0.1秒以下での処理が可能です）
- 駆動部がないため、高い繰り返し再現性を実現
- 設定する測定項目が少なく、測定が簡単
- 測定波長は550nmのほか、さまざまな波長をラインアップ
- Rth測定、全方位角測定が可能
（オプションの自動回転傾斜治具が必要です） - 引張試験機と組み合わせることにより、フィルムの偏光特性と同時に光弾性評価が可能（このシステムは特注対応となります）
測定項目
- リタデーション（ρ[deg.], Re[nm]）
- 主軸方位角（θ[deg.]）
- 楕円率（ε）・方位角（γ）
- 三次元屈折率（NxNyNz）
測定対象
- 位相差フィルム
- 偏光フィルム
- 楕円フィルム
- 視野角改善フィルム
- 各種機能性フィルム
- 樹脂
- ガラス 透明で異方性のあるもの
カラーフィルタ分光特性測定装置LCF series
特長
- 透過スペクトル測定、色測定をはじめ、濃度測定、膜厚測定、反射スペクトル測定などにより、
カラーフィルタ製造工程中のあらゆる検査に対応可能な装置 - カラーフィルタの光学特性やガラス基板上膜の薄膜解析など、さまざまな評価に利用可能
- オートフォーカス機能や自動絵素位置合わせ機能により、高精度な測定が可能であり、レシピ登録による完全自動検査にも対応し可能
測定項目
- カラーフィルタ評価
- 膜厚評価
測定対象
- R
- G
- B
- ITO
- PI
- PR
- OC
- BM
分光配光測定システムGP series
特長
- 最大2400mmのLED照明器具の配光測定に対応
- 有機ELや大型ディスプレイの配光測定にも対応
- 2軸ゴニオメータを自動制御して、角度ごとの分光分布測定を行い、 球帯係数法により分光全放射束と全光束および色度、色温度などを求めることが可能
- 広ダイナミックレンジ測定が可能
- IESNAのLM-75に対応
- GP-2000は、TypeB、TypeCの両方に対応可能
- 紫外域・近赤外域の配光測定にも対応可能
- 光度標準電球の供給が可能（JCSS）
リタデーション測定装置RETS-100nx
特長
- 独自の分光器だからできる高精度測定
- 超高リタデーション測定
- 多層測定
- 軸角度補正機能
- かんたんソフトウェア
測定項目（フィルム、光学材料）
- リタデーション（波長分散）
- 遅相軸
- Rth*
- 3次元屈折率*
測定項目（偏光板）
- 吸収軸
- 偏光度
- 消光比
- 各種色度
- 各種透過率
測定項目（液晶セル）
- セルギャップ
- プレチルト角*
- ツイスト角
- 配向角
測定対象
- 表示デバイス
- 光学材料
- フィルム
- 化学工業材料
マルチチャンネル分光器MCPD-9800/6800 series
特長
- 用途に応じた多彩な検出器をラインアップ
- 通信インターフェースはUSBとLANに対応可能
- 高速・高感度に光スペクトルを測定
- オプティカルファイバーによる自由な光学系
測定項目
- 顕微分光
- 光源発光
- 透過・反射測定
- 物体色評価
- 膜厚測定
組込み型膜厚モニター
特長
- 分光干渉法を用いた膜厚計
- 高精度FFT膜厚解析エンジンを搭載
（特許 第4834847号） - オプティカルファイバーにより
自由な測定系の構築が可能 - 各種製造装置への組み込みが可能
- リアルタイムでの膜厚測定が可能
- 遠隔操作、多点測定に対応
- 長寿命、高安定性の白色LED光源を採用
測定項目
- 膜厚
測定対象
- 光学フィルム
- FPD関連
スマート膜厚計SM-100 series
特長
- 「持ち運び可能なハンディタイプ」1.1 kgと軽く、持ち運びも簡単
- 「高精度測定＆簡単測定」最薄0.1 μｍまで検量線不要で測定可能
- 「多層膜も対応」3層までの多層膜を測定可能
- 「非破壊・非接触測定」サンプルを傷つけることもなく測定可能
- 「様々なサンプルを測定」基材（ガラス・プラスチック）を選ばず測定可能
測定対象例
- 光学フィルム
- 接着層
- 酸化膜
- レジスト膜
- ハードコート膜
- ポリイミド膜
測定膜厚範囲
- Pro（単層）：0.1～100μm
- Pro（多層）：1～100μm
- Standard(単層）：1～50μm
分光エリプソメータFE-5000 series
特長
- 紫外可視（300～800nm）の波長領域でのエリプソパラメータ測定が可能
- ナノメータオーダーの多層薄膜の膜厚解析が可能
- 400ch以上のマルチチャンネル分光法によるエリプソスペクトルの迅速測定が可能
- 反射角度可変測定により、薄膜の詳細な解析に対応
- 光学定数のデータベース化およびレシピ登録機能の追加により操作性がアップ
測定項目
- エリプソパラメータ(tanψ、cosΔ)測定
- 光学定数(n：屈折率 , k：消衰係数)解析
- 膜厚解析
測定対象
- 半導体ウェーハ
- 化合物半導体
- FPD
- 各種新素材
- 光学薄膜
- リソグラフィー分野
分光干渉式ウェーハ厚み計SF-3
特長
- 光学式により非接触・非破壊での厚み測定が可能
- 高い測定再現性を実現
- 高速でリアルタイムに研磨モニタが可能
- 長いWD（ワークディスタンス）を実現し、
機器への組み込みが容易 - ホスト機器からLANを使用したTCP/IP通信で制御
- 多層厚み測定が可能
- テンポラリーウェーハ（仮貼り合わせウェーハ）の各層厚み測定が可能
測定項目
- 厚み測定（５層）
用途
- 各種ウェーハ(Silicon・その他化合物ウェーハ)厚み測定
- 各種 研削・研磨・貼り合わせなどへのプロセスへの組み込み
- ウェーハ以外の厚膜部材厚み測定
膜厚モニターFE-300F
特長
- 小型・低価格・簡単操作で膜厚測定
- 分光器、光源の選択により測定膜厚範囲の選択可能
- 条件設定や測定操作が簡単。
どなたでも手軽に測定可能 - リアルタイムモニター機能や
シュミレーション機能などを搭載 - 測定スポット径φ1.2mmで、3nm～35μｍの薄膜から厚膜まで幅広い測定に対応
測定項目
- 絶対反射率測定
- 膜厚解析（10層）
- 光学定数解析（n：屈折率、k：消衰計数）
測定対象
- 機能性フィルム、プラスチック
- 半導体
- 表面処理
- 光学材料
- FPD
- その他
MCPD series組込み型膜厚ヘッド
特長
- 膜厚測定範囲65nm～92μm（SiO2換算）
- 最短露光時間1ms~※
- フレキシブルファイバー光学系のため、
半導体プロセス装置に組込みが容易 - 上位からリモートコントロールが可能
- 研磨中の膜厚終点検出にも最適
【インラインタイプ】ラインスキャン膜厚計®
特長
- ラインスキャン方式の採用で「抜け」のない全面フィルム検査を実現
- 膜厚測定の専門メーカーだからできる充実サポート
- 高速・高精度に測定が可能
- バタつきに強い光学系を採用
- 幅広のサンプル（TD方向に最大10m測定可能）
- ハード・ソフト共にオリジナル設計
測定対象
- フィルム基材
- フィルム上各種薄膜（AR、ITO、HCなど）
- ガラス
- 機能性材料
- 医療用材料
測定項目
- 膜厚値(二次元マップ、MD・TDトレンド)
検出対象例
- MDスジ
- 横ダン
- 斜めムラ
- チャックムラ
- スポット欠陥
顕微分光膜厚計OPTM series
特長
- 膜厚測定に必要な機能をヘッド部に集約
- 顕微分光で高精度な絶対反射率測定（多層膜厚、光学定数）
- 1ポイント1秒以内の高速測定
- 顕微下で広い測定波長範囲を実現する光学系（紫外～近赤外）
- エリアセンサーによる安全機構
- 初めての方でも光学定数解析が可能な楽々解析ウイザード
- 測定シーケンスをカスタマイズ可能なマクロ機能搭載
- 複雑な光学定数も解析可能（複数点解析法）
- 300mmステージ対応可能
- 各種カスタマイズに対応
測定分野
- 半導体
- フィルム
- 太陽電池
- DLC
- FPD
- 光学部品
測定例
- 酸化膜
- 窒化膜
- レジスト膜
- ARコート膜
- ペロブスカイト膜
- 各種光学薄膜
測定項目
- 絶対反射率
- 膜厚解析
- 光学定数解析（n：屈折率、ｋ：消衰係数）
高分子相構造解析システムPP-1000
特長
- 散乱角度0.33～45°の測定を最短10msecで測定可能 （※HDR機能を使用しない時）
- サブミクロン～数百ミクロンの構造を評価
- 専用のセルで溶液サンプルも測定可能
- Hv散乱、Vv散乱測定をソフト上で簡単に切り替え可能
- 卓上タイプで実験室に設置可能
ゼータ電位・粒子径測定システムELSZneoSE
特長
- 用途に合わせて機能を追加可能
- 標準フローセルで粒子径とゼータ電位を連続して測定可能
- 希薄から濃厚溶液（～40%）まで幅広い濃度範囲の粒子径・ゼータ電位測定が可能
- 平板状サンプルのゼータ電位を高塩濃度下で測定が可能
- 0～90℃の広い温度範囲で測定が可能
- 温度グラジエント機能によりタンパク質などの変性・相転移温度解析が可能
- セル内の電気浸透流を実測、プロット解析により高精度なゼータ電位測定結果を提供
- 蛍光カットフィルター取付け可能（オプション）
測定対象
- 新規機能性材料
- セラミックス・色材工業
- 半導体
- 高分子・化学工業
- 医薬品・食品工業
測定項目
- ゼータ電位
- 粒子径
ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムELSZneo
特長
- 希薄から濃厚溶液（～40%）*1まで幅広い濃度範囲の粒子径・ゼータ電位測定が可能
- 多角度測定により、分離能の高い粒子径分布の測定が可能
- 平板状サンプルのゼータ電位を高塩濃度下で測定が可能
- 静的光散乱法を用いて粒子濃度の測定が可能
- 動的光散乱法によりマイクロレオロジー測定が可能
- ゲル試料を複数点測定することによりゲルの網目構造や不均一性の評価が可能
- 標準フローセルで粒子径とゼータ電位を連続して測定が可能
- ０～90℃の広い温度範囲で測定が可能
- 温度グラジエント機能によりタンパク質などの変性・相転移温度解析が可能
- セル内の電気浸透流を実測、プロット解析により高精度なゼータ電位測定結果を提供
- 蛍光カットフィルター取付け可能（オプション）
測定項目
- ゼータ電位
- 粒子径
- 分子量
- 多角度粒度分布
- 粒子濃度
- マイクロレオロジー
- ゲル網目構造解析
測定範囲
- ゼータ電位：実効的な上限なし
- 電気移動度：-2×10-5～2×10-5cm2/V・s
- 粒子径：0.6 nm ～ 10μm
- 分子量：340 ～ 2×107
対応範囲
- 測定温度範囲：0 ～ 90℃
- 測定濃度範囲(ゼータ電位)：0.001～40%
- 測定濃度範囲(粒子径)：0.00001(0.1ppm)～40%*1
