製品カテゴリ
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製品一覧
超高速分光干渉式厚み計
特長
- 非接触、非破壊で厚み測定が可能
- 反射光学系（片側からのコンタクトで測定が可能）
- 高速性（最速５ｋHz）且つリアルタイム評価が可能
- 高い安定性（繰返し精度 0.01％以下）を実現
- 粗さに強い
- 任意距離に対応が可能
- 多層構造に対応（最大5層）
- NGデータ排除機能を内蔵
測定項目
- 厚み測定（５層）
用途
- 各種電子部品
- 光学材料
- 半導体関連
- 自動車関連
- 電池・エネルギー関連
- ウェアラブルデバイス
- 医用関連
- ディスプレイ関連
膜厚測定用途マルチチャンネル分光器MCPD series
特長
- 用途に応じた多彩な検出器をラインアップ
- 通信インターフェースはUSBとLANに対応可能
- 高速・高感度に光スペクトルを測定
- オプティカルファイバーによる自由な光学系
インラインフィルム評価システムMCPD series
特長
- プロセス中の薄膜高速測定に最適
- 最短露光時間1ms～※
- リモート測定に対応
- 膜厚測定範囲65nm～92μm（SiO2換算）
マルチチャンネル分光器MCPD-9800/6800 series
特長
- 用途に応じた多彩な検出器をラインアップ
- 通信インターフェースはUSBとLANに対応可能
- 高速・高感度に光スペクトルを測定
- オプティカルファイバーによる自由な光学系
測定項目
- 顕微分光
- 光源発光
- 透過・反射測定
- 物体色評価
- 膜厚測定
組込み型膜厚モニター
特長
- 分光干渉法を用いた膜厚計
- 高精度FFT膜厚解析エンジンを搭載
（特許 第4834847号） - オプティカルファイバーにより
自由な測定系の構築が可能 - 各種製造装置への組み込みが可能
- リアルタイムでの膜厚測定が可能
- 遠隔操作、多点測定に対応
- 長寿命、高安定性の白色LED光源を採用
測定項目
- 膜厚
測定対象
- 光学フィルム
- FPD関連
スマート膜厚計SM-100 series
特長
- 「持ち運び可能なハンディタイプ」1.1 kgと軽く、持ち運びも簡単
- 「高精度測定＆簡単測定」最薄0.1 μｍまで検量線不要で測定可能
- 「多層膜も対応」3層までの多層膜を測定可能
- 「非破壊・非接触測定」サンプルを傷つけることもなく測定可能
- 「様々なサンプルを測定」基材（ガラス・プラスチック）を選ばず測定可能
測定対象例
- 光学フィルム
- 接着層
- 酸化膜
- レジスト膜
- ハードコート膜
- ポリイミド膜
測定膜厚範囲
- Pro（単層）：0.1～100μm
- Pro（多層）：1～100μm
- Standard(単層）：1～50μm
分光エリプソメータFE-5000 series
特長
- 紫外可視（300～800nm）の波長領域でのエリプソパラメータ測定が可能
- ナノメータオーダーの多層薄膜の膜厚解析が可能
- 400ch以上のマルチチャンネル分光法によるエリプソスペクトルの迅速測定が可能
- 反射角度可変測定により、薄膜の詳細な解析に対応
- 光学定数のデータベース化およびレシピ登録機能の追加により操作性がアップ
測定項目
- エリプソパラメータ(tanψ、cosΔ)測定
- 光学定数(n：屈折率 , k：消衰係数)解析
- 膜厚解析
測定対象
- 半導体ウェーハ
- 化合物半導体
- FPD
- 各種新素材
- 光学薄膜
- リソグラフィー分野
分光干渉式ウェーハ厚み計SF-3
特長
- 光学式により非接触・非破壊での厚み測定が可能
- 高い測定再現性を実現
- 高速でリアルタイムに研磨モニタが可能
- 長いWD（ワークディスタンス）を実現し、
機器への組み込みが容易 - ホスト機器からLANを使用したTCP/IP通信で制御
- 多層厚み測定が可能
- テンポラリーウェーハ（仮貼り合わせウェーハ）の各層厚み測定が可能
測定項目
- 厚み測定（５層）
用途
- 各種ウェーハ(Silicon・その他化合物ウェーハ)厚み測定
- 各種 研削・研磨・貼り合わせなどへのプロセスへの組み込み
- ウェーハ以外の厚膜部材厚み測定
膜厚モニターFE-300F
特長
- 小型・低価格・簡単操作で膜厚測定
- 分光器、光源の選択により測定膜厚範囲の選択可能
- 条件設定や測定操作が簡単。
どなたでも手軽に測定可能 - リアルタイムモニター機能や
シュミレーション機能などを搭載 - 測定スポット径φ1.2mmで、3nm～35μｍの薄膜から厚膜まで幅広い測定に対応
測定項目
- 絶対反射率測定
- 膜厚解析（10層）
- 光学定数解析（n：屈折率、k：消衰計数）
測定対象
- 機能性フィルム、プラスチック
- 半導体
- 表面処理
- 光学材料
- FPD
- その他
MCPD series組込み型膜厚ヘッド
特長
- 膜厚測定範囲65nm～92μm（SiO2換算）
- 最短露光時間1ms~※
- フレキシブルファイバー光学系のため、
半導体プロセス装置に組込みが容易 - 上位からリモートコントロールが可能
- 研磨中の膜厚終点検出にも最適
【インラインタイプ】ラインスキャン膜厚計®
特長
- ラインスキャン方式の採用で「抜け」のない全面フィルム検査を実現
- 膜厚測定の専門メーカーだからできる充実サポート
- 高速・高精度に測定が可能
- バタつきに強い光学系を採用
- 幅広のサンプル（TD方向に最大10m測定可能）
- ハード・ソフト共にオリジナル設計
測定対象
- フィルム基材
- フィルム上各種薄膜（AR、ITO、HCなど）
- ガラス
- 機能性材料
- 医療用材料
測定項目
- 膜厚値(二次元マップ、MD・TDトレンド)
検出対象例
- MDスジ
- 横ダン
- 斜めムラ
- チャックムラ
- スポット欠陥
顕微分光膜厚計OPTM series
特長
- 膜厚測定に必要な機能をヘッド部に集約
- 顕微分光で高精度な絶対反射率測定（多層膜厚、光学定数）
- 1ポイント1秒以内の高速測定
- 顕微下で広い測定波長範囲を実現する光学系（紫外～近赤外）
- エリアセンサーによる安全機構
- 初めての方でも光学定数解析が可能な楽々解析ウイザード
- 測定シーケンスをカスタマイズ可能なマクロ機能搭載
- 複雑な光学定数も解析可能（複数点解析法）
- 300mmステージ対応可能
- 各種カスタマイズに対応
測定分野
- 半導体
- フィルム
- 太陽電池
- DLC
- FPD
- 光学部品
測定例
- 酸化膜
- 窒化膜
- レジスト膜
- ARコート膜
- ペロブスカイト膜
- 各種光学薄膜
測定項目
- 絶対反射率
- 膜厚解析
- 光学定数解析（n：屈折率、ｋ：消衰係数）
キャピラリ電気泳動システムAgilent 7100
特長
- バッファマニュアルなど豊富なアプリケーションによる優れた技術サポート
- 陽イオンや陰イオンなど異なる成分を一台の装置で分析可能
- 微量サンプルで短時間・高分解能な分析が可能
- バブルセルキャピラリにより分離能を損なわず3～5倍の高感度化を実現
- 対イオンや夾雑物の影響を受けにくく前処理がほとんど不要
- 高価なカラムや溶剤を使用しないため経済的で環境にも優しい
- Open LAB CDS ChemStation により、日本語対応
ダイナミック光散乱光度計DLS-6500series
特長
- 動的光散乱法を用いた粒子径・粒子径分布（粒径・粒径分布）測定が可能です。
- He-Neレーザー、固体レーザー、ダブルレーザーの仕様が選択できます。
- 最大4096chの相関計により、高分子濃厚溶液などの多モード解析が可能です。
- オプションのゲル回転セルと組み合わせてゲル状態の解析が可能です。
測定対象
- 合成高分子
- 生体高分子
- 無機物
測定項目
- 粒子径・粒子径分布
- 並進拡散係数
ダイナミック光散乱光度計DLS-8000series
特長
- 動的光散乱法を用いた粒子径・粒子径分布（粒径・粒径分布）測定と静的光散乱法を用いた絶対分子量・慣性半径・第二ビリアル係数の測定が可能です。
- He-Neレーザー、固体レーザー、ダブルレーザーの仕様が選択できます。
- 液浸セル光学系を採用しているため、微弱散乱のナノオーダー粒子を高精度に測定できます。
- 最大4096chの相関計により、高分子濃厚溶液などの多モード解析が可能です。
- オプションのゲル回転セルと組み合わせてゲル状態の解析が可能です。
測定対象
- 合成高分子
- 生体高分子
- 無機物
測定項目
- 粒子径・粒子径分布
- 並進拡散係数
- 重量平均分子量
- 慣性半径
- 第二ビリアル係数
多検体ナノ粒子径測定システムnanoSAQLA
特長
- 1台で手軽に5検体連続測定
- 希薄から濃厚系対応
- 標準測定時間1分の高速測定
- かんたん測定機能搭載 (1クリックで測定開始できる)
- 非浸漬型のセルブロック内蔵で分注なしのコンタミレス
- 温度グラジエント機能搭載
- 1台で手軽に5検体連続測定
- 希薄から濃厚系対応
- 標準測定時間1分の高速測定
- かんたん測定機能搭載 (1クリックで測定開始できる)
- 非浸漬型のセルブロック内蔵で分注なしのコンタミレス
- 温度グラジエント機能搭載
測定性能
- 測定範囲：0.6nm～10μm
- 濃度範囲：0.00001(0.1ppm)～40% *2
- 連続測定：最大5検体
- 温度範囲：0～90℃(温度グラジエント機能あり)*3
ゼータ電位・粒子径測定システムELSZneoSE
特長
- 用途に合わせて機能を追加可能
- 標準フローセルで粒子径とゼータ電位を連続して測定可能
- 希薄から濃厚溶液（～40%）まで幅広い濃度範囲の粒子径・ゼータ電位測定が可能
- 平板状サンプルのゼータ電位を高塩濃度下で測定が可能
- 0～90℃の広い温度範囲で測定が可能
- 温度グラジエント機能によりタンパク質などの変性・相転移温度解析が可能
- セル内の電気浸透流を実測、プロット解析により高精度なゼータ電位測定結果を提供
- 蛍光カットフィルター取付け可能（オプション）
測定対象
- 新規機能性材料
- セラミックス・色材工業
- 半導体
- 高分子・化学工業
- 医薬品・食品工業
測定項目
- ゼータ電位
- 粒子径
ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムELSZneo
特長
- 希薄から濃厚溶液（～40%）*1まで幅広い濃度範囲の粒子径・ゼータ電位測定が可能
- 多角度測定により、分離能の高い粒子径分布の測定が可能
- 平板状サンプルのゼータ電位を高塩濃度下で測定が可能
- 静的光散乱法を用いて粒子濃度の測定が可能
- 動的光散乱法によりマイクロレオロジー測定が可能
- ゲル試料を複数点測定することによりゲルの網目構造や不均一性の評価が可能
- 標準フローセルで粒子径とゼータ電位を連続して測定が可能
- ０～90℃の広い温度範囲で測定が可能
- 温度グラジエント機能によりタンパク質などの変性・相転移温度解析が可能
- セル内の電気浸透流を実測、プロット解析により高精度なゼータ電位測定結果を提供
- 蛍光カットフィルター取付け可能（オプション）
測定項目
- ゼータ電位
- 粒子径
- 分子量
- 多角度粒度分布
- 粒子濃度
- マイクロレオロジー
- ゲル網目構造解析
測定範囲
- ゼータ電位：実効的な上限なし
- 電気移動度：-2×10-5～2×10-5cm2/V・s
- 粒子径：0.6 nm ～ 10μm
- 分子量：340 ～ 2×107
対応範囲
- 測定温度範囲：0 ～ 90℃
- 測定濃度範囲(ゼータ電位)：0.001～40%
- 測定濃度範囲(粒子径)：0.00001(0.1ppm)～40%*1
