概要
結晶成長層が目的の厚みで成膜できているか評価することは大変重要です。厚みにずれが生じると不良が生じたり、目的の性能が得られないなどの問題が生じます。光干渉式膜厚測定では非接触、非破壊、高精度での測定が可能なため成膜された厚みを評価するのに適しています。
活用例
結晶成長層が目的の厚みで成膜できているか評価することは大変重要です。厚みにずれが生じると不良が生じたり、目的の性能が得られないなどの問題が生じます。光干渉式膜厚測定では非接触、非破壊、高精度での測定が可能なため成膜された厚みを評価するのに適しています。
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