無事終了いたしました。
多数のご参加を頂き、誠にありがとうございました。

2022年12月14日(水)から16日(金)まで、東京ビッグサイトで「SEMICON JAPAN 2022」が開催されます。

イベント概要

名称

SEMICON Japan 2022

日程

2022年12月14日(水)~16日(金) 10:00~17:00

場所

東京国際展示場(東京ビッグサイト)

参加費

無料
(入場登録が必要です)

主催

SEMI

出展ブース

3035

SEMICON Japan 2022ブース

出展製品

半導体工場の膜厚ニーズに合わせた
インテグレーション

半導体工場の膜厚ニーズに合わせた
インテグレーション

  • 300mm EFFMユニット予備portへの
    インテグレーションに対応
  • シリコン越しでもウェーハ内部の構造を確認し、
    測定位置を合わせることができる
    カメラモニターを搭載
  • 小フットプリント(500mm×500mm)
ロードポート対応膜厚測定システムGS-300特長

300mmウェーハにも対応

300mmウェーハにも対応

  • 1ポイント1秒の高速測定でストレスフリーな測定を実現
  • カメラ機能で見たい位置を狙ってパターンを
    アライメントすることが可能
  • 光学定数解析をサポートする楽々解析ウィザード機能
    を搭載
  • 測定シーケンスをカスタマイズ可能なマクロ機能を搭載
顕微分光膜厚計 OPTM series特長

あらゆるウェーハのプロセスに最適

あらゆるウェーハのプロセスに最適

  • 高速測定(1ms以下)によりリアルタイムモニター
    に最適
  • 高い安定性(繰返し精度 0.01%以下)を実現
  • 測定スポット径がφ20μmのため表面の粗さに強い
  • 多層構造に対応(最大5層)
分光干渉式ウェーハ厚み計 SF-3特長

ウェーハの表面電位、研磨粒子の評価

ウェーハの表面電位、研磨粒子の評価

  • ウェーハ表面および研磨粒子のゼータ電位測定により
    ウェーハへの粒子吸着特性の評価が可能
  • 研磨粒子の粒子径測定により分散・凝集の管理が可能

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