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あなたの条件にピッタリの
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選ぶのがむずかしい･･･
そんな方に、お求めの条件に
最適な膜厚計を
ピックアップいたします！
お探ししている膜厚計は主にどのような使用目的でしょうか？
インライン(検査)
研究開発
品質管理
わかりません
ウェーハ基材の厚み測定でしょうか？
はい
いいえ
わかりません
面内マッピングを測定希望でしょうか?
はい
いいえ
ウェーハ基材の厚み測定でしょうか？
はい
いいえ
わかりません
スポットサイズは1mm以下をご希望でしょうか？
はい
いいえ
わかりません
膜厚全面抜けの無い検査を希望でしょうか?
はい
いいえ
わかりません
スポットサイズは1mm以下をご希望でしょうか？
はい
いいえ
わかりません
偏光解析（エリプソパラメータ取得（tanψ、cosΔ））や1nm以下の膜厚の測定をご希望でしょうか？
はい
いいえ
わかりません
全面抜けの無い検査をご希望でしょうか?
はい
いいえ
わかりません
膜厚以外に反射透過発光測定もできる汎用光学評価装置をご希望でしょうか？
はい
いいえ
わかりません
膜厚全面の抜けの無い検査をご希望でしょうか？
はい
いいえ
わかりません
可搬型(ハンディタイプ)をご希望ですか？
はい
いいえ
わかりません
ウェーハ基材の厚み測定でしょうか？
はい
いいえ
わかりません
可搬型(ハンディタイプ)をご希望ですか？
はい
いいえ
わかりません
スポットサイズは1mm以下をご希望でしょうか？
はい
いいえ
わかりません
1nm前後の厚み測定であればOPTMで測定出来る可能性が十分ございます。
使い勝手のいいOPTMシリーズはいかがでしょうか？
ウェーハ面内の膜厚分布（例：酸化膜、窒化膜、Resistなど）を高速測定可能な装置です。300mmステージにも対応可能です。顕微分光を用いた微小領域での絶対反射率測定により、高精度な膜厚・光学定数解析が可能な装置です。ウェーハ上の酸化膜、窒化膜、Resistなどの厚みや多層膜を非破壊・非接触で測定できます。測定時間は1秒/ポイントの高速測定が可能です。また初めての方でも簡単に光学定数の解析ができるソフトウェアを搭載しています。
偏光解析や1nm以下の膜厚の測定をご希望でしょうか？
偏光解析や1nm以下の膜厚の測定をご希望でしょうか？
はい
いいえ
下記リンクよりお客様のサンプル情報（基材・測定対象膜の材質及びおおよその厚み）をご入力いただければ、
測定の可否および最適な機種について改めてご連絡させていただきます。
お問い合わせ
下記リンクよりお客様のサンプル情報（基材・測定対象膜の材質及びおおよその厚み）をご入力いただければ、
測定の可否および最適な機種について改めてご連絡させていただきます。
お問い合わせ
Si、SiC、SOI等の研削研磨プロセスにおいて、ウェーハ厚み分布、ボンディング層厚み分布、各種製膜層の厚み分布（例：Si、酸化膜、窒化膜、SiC、SOIなど）を非接触で超高速・高精度に測定を行います。
Si、SiC、SOI等の研削研磨プロセスにおいて、ウェーハ厚み分布、ボンディング層厚み分布、各種製膜層の厚み分布（例：Si、酸化膜、窒化膜、SiC、SOIなど）を非接触で超高速・高精度に測定を行います。
300mm基板自動搬送装置（EFEMユニット）の予備ポートに取りつけることができる小フットプリントの膜厚測定システムです。高精度な測定位置決め機能を持ち、ウェーハ厚み分布、ボンディング層厚み分布、各種製膜層の厚み分布（例：Si、酸化膜、窒化膜、Resist、SiC、SOIなど）を高速に測定することが可能です。
下記リンクよりお客様のサンプル情報（基材・測定対象膜の材質及びおおよその厚み）をご入力いただければ、
測定の可否および最適な機種について改めてご連絡させていただきます。
お問い合わせ
Si、SiC、SOI等の研削研磨プロセスにおいて、ウェーハ厚み分布、ボンディング層厚み分布、各種製膜層の厚み分布（例：Si、酸化膜、窒化膜、SiC、SOIなど）を非接触で超高速・高精度に測定を行います。
下記リンクよりお客様のサンプル情報（基材・測定対象膜の材質及びおおよその厚み）をご入力いただければ、
測定の可否および最適な機種について改めてご連絡させていただきます。
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顕微分光膜厚計OPTM seriesの高精度、微小スポットを生かし、ウェーハのパターン作成後の微小エリア測定など、インラインで膜厚情報を提供します。
全面抜けの無い検査についてはラインスキャン膜厚計®【オフライン（ウェーハ対応タイプ）】を
ご参照ください
詳しくはこちら
生産現場においてウェーハ面内の膜厚分布（例：酸化膜、窒化膜、Resistなど）を漏れなく2次元測定できる装置です。独自の分光干渉法に新たに開発した高精度膜厚演算処理技術を組み合わせることで、最短0.001秒毎の測定間隔で500mm幅（1台使用時）の膜厚測定が可能です。
マルチチャンネル分光器（MCPD）、投受光用Y型ファイバー、そして豊富なオプションユニットの組み合わせによりインライン膜厚（例：酸化膜、窒化膜、Resistなど）測定に対応いたします。製膜、研磨など膜厚変化のリアルタイムモニターとしてもお使いいただけます。
紫外可視（300～800nm）の波長領域でのエリプソパラメータ（tanψ、cosΔ）測定が可能なため、高精度な薄膜解析が可能です。測定角度の自動可変機構を実装させることにより、あらゆる種類の薄膜にも対応しております。従来の回転検光子法に加え、位相差板の自動脱着機構を設けることにより、測定精度を向上させました。
高精度な薄膜解析が可能な分光エリプソメトリーに加え、測定角度の自動可変機構を実装させることにより、あらゆる種類の薄膜にも対応しております。従来の回転検光子法に加え、位相差板の自動脱着機構を設けることにより、測定精度を向上させました。
ウェーハ面内の膜厚分布（例：酸化膜、窒化膜、Resistなど）を高速測定可能な装置です。300mmステージにも対応可能です。顕微分光を用いた微小領域での絶対反射率測定により、高精度な膜厚・光学定数解析が可能な装置です。ウェーハ上の酸化膜、窒化膜、Resistなどの厚みや多層膜を非破壊・非接触で測定できます。測定時間は1秒/ポイントの高速測定が可能です。また初めての方でも簡単に光学定数の解析ができるソフトウェアを搭載しています。
ウェーハへの製膜（例：酸化膜、窒化膜、Resistなど）の研究開発や品質管理の抜き取り検査に、オフラインで簡単に漏れなく2次元測定できる装置です。全面を高速かつ高精度に測定可能です。
OPTMシリーズの自動XYステージ仕様では精密な面内マッピング測定も可能です。
OPTMシリーズはいかがでしょうか？
ウェーハ面内の膜厚分布（例：酸化膜、窒化膜、Resistなど）を高速測定可能な装置です。300mmステージにも対応可能です。顕微分光を用いた微小領域での絶対反射率測定により、高精度な膜厚・光学定数解析が可能な装置です。ウェーハ上の酸化膜、窒化膜、Resistなどの厚みや多層膜を非破壊・非接触で測定できます。測定時間は1秒/ポイントの高速測定が可能です。また初めての方でも簡単に光学定数の解析ができるソフトウェアを搭載しています。
マルチチャンネル分光器（MCPD）、投受光用Y型ファイバー、そして豊富なオプションユニットの組み合わせによりインライン膜厚（例：酸化膜、窒化膜、Resistなど）測定に対応いたします。製膜、研磨など膜厚変化のリアルタイムモニターとしてもお使いいただけます。
高精度な光干渉法による膜厚測定を簡単操作で実現した小型で低価格な膜厚計です。
必要な機器を本体部に収納したオールインワンタイプの筺体を採用し、安定したデータの取得を実現しました。（測定例：酸化膜、窒化膜、Resistなど）低価格でありながらも絶対反射率の取得により、光学定数の解析も可能です。
膜厚測定は専用装置化されたほうが使い勝手がいい場合もあります。
膜厚測定専用の装置であればOPTMシリーズはいかがでしょうか？
ウェーハ面内の膜厚分布（例：酸化膜、窒化膜、Resistなど）を高速測定可能な装置です。300mmステージにも対応可能です。顕微分光を用いた微小領域での絶対反射率測定により、高精度な膜厚・光学定数解析が可能な装置です。ウェーハ上の酸化膜、窒化膜、Resistなどの厚みや多層膜を非破壊・非接触で測定できます。測定時間は1秒/ポイントの高速測定が可能です。また初めての方でも簡単に光学定数の解析ができるソフトウェアを搭載しています。
スマート膜厚計は下記のような特徴があり、皆様のお困りごとを解決します。
・ 現場に持っていけるハンディタイプ
・ ハンディタイプでも高精度な測定ができる
・ウェットな膜や半導体ウェーハのように接触したくないサンプルは
プローブの位置を自由に設定して非接触で測定が可能(オプション)
測定例：酸化膜、離型剤コート、防水防湿コートなど
マルチチャンネル分光器（MCPD）、投受光用Y型ファイバー、そして豊富なオプションユニットの組み合わせによりインライン膜厚測定（基材厚み：PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVAなど および各種基材上のコート膜）に対応いたします。ファイバーのTD方向へのトラバース駆動による検査、あるいはファイバーの多点切替測定も可能です。フィルム製造工程における膜厚のリアルタイムモニターとしてお使いいただけます。
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