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無事終了いたしました。
多数のご来場を頂き、誠にありがとうございました
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セミコンジャパン2009にて、弊社製品の最新技術をご紹介します。
大塚電子ブースでは、新製品「膜厚モニター FE-300」を実機展示します。薄膜から厚膜の幅広い膜厚測定に対応可能な光干渉式膜厚計です。コンパクトな外観、優れた操作性をぜひ弊社ブースにてご覧ください。
また、出展社セミナーでも、FE-300に搭載された機能や特長を測定例を交えてご紹介します。こちらへのご参加もお待ちしております。
この他に、エプソンメソッド対応「PFC簡易測定ツール」を搭載した「ガス分析装置」、 CMPスラリー分散評価やウェハ表面解析に最適な「ゼータ電位計」も展示します。
ぜひ弊社ブース(3C-804)へお立ち寄りください。
大塚電子ブースでは、新製品「膜厚モニター FE-300」を実機展示します。薄膜から厚膜の幅広い膜厚測定に対応可能な光干渉式膜厚計です。コンパクトな外観、優れた操作性をぜひ弊社ブースにてご覧ください。
また、出展社セミナーでも、FE-300に搭載された機能や特長を測定例を交えてご紹介します。こちらへのご参加もお待ちしております。
この他に、エプソンメソッド対応「PFC簡易測定ツール」を搭載した「ガス分析装置」、 CMPスラリー分散評価やウェハ表面解析に最適な「ゼータ電位計」も展示します。
ぜひ弊社ブース(3C-804)へお立ち寄りください。
| ●名 称 | SEMICON Japan 2009 | |
| ●会 期 | 2009年12月2日（水）～4日（金）10：00 ～ 17：00 | |
| ●会 場 | 幕張メッセ | |
| ●入場料 | 無料（事前登録制） |
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| ●主 催 | SEMIジャパン |
| 【 膜厚評価 】 小型・低価格！簡単操作で、"非接触"膜厚測定！ |
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● 膜厚モニター FE-300 薄膜から厚膜の幅広い膜厚測定に対応可能な光干渉式膜厚計です。 コンパクト・低価格でありながら高精度測定を実現します。 安価でお求めやすい固定ステージ仕様と、マッピング測定が可能な自動ステージ仕様の２種類をラインナップしています。
*2 仕様により測定膜厚範囲および測定波長範囲は異なります |
| 【 膜厚評価装置 】 省スペース・高機能エリプソメータを低価格にてご提供 |
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● 卓上型分光エリプソメータ FE-5000S 高精度な膜厚解析・光学定数解析が可能な卓上型分光エリプソメータです。自動角度可変測定、全角度同時解析など高機能仕様の分光エリプソメータを低価格・省スペースにて実現しました。薄膜材料における多層薄膜の膜厚解析が可能であり、膜厚管理・膜質管理に有用な情報を提供することが可能です。
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| 【 FTIRガス分析装置 】 プロセス装置から排出されるPFCガスの成分分析 |
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● 工業用ガス分析装置 IG-2000 誰にでも現場で簡単にガス成分分析ができるプロセス用ガス連続モニターです。エプソンメソッドに対応した「PFC簡易測定ツール」を搭載。半導体・液晶工場におけるPFCガス（地球温暖化ガスなど）の現場分析に最適です。
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| 【 ゼータ電位・粒径測定装置 】 CMPスラリー分散評価とウｪハ表面解析 |
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● ゼータ電位・粒径測定システム ELSZ series  微粒子の分散・凝集性、表面改質の指標となるゼータ電位および粒子径・粒子径分布を測定する装置です。
CMPのスラリー液に含まれる研磨微粒子の分散安定性評価、シリコンウェハ上の表面電荷測定に利用できます。
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| ●日 時 | 2009年12月3日（木） 14：30～15：20 |
| ●会 場 | ルーム1 |
| ●タイトル | 小型・低価格でありながら高性能な膜厚計のご紹介 |
| ●概 要 | 新製品「膜厚モニターFE-300」は、弊社が長年培ってきた分光計測 技術を基に開発した、 コンパクトかつ低価格を 実現した非破壊・非接 触方式の高性能ファイバー型膜厚システムです。 本セミナーでは、製品概要や測定原理などのほか、膜厚管理・膜質 管理のための 有用な情報提供を可能にしたサンプル測定の実例を ご紹介します。 |
