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大塚電子 ニュース
Convertech JAPAN 2008 (コンバーティング・テクノロジー総合展)
無事終了いたしました。
多数のご来場を頂き、誠にありがとうございました

2月13日から東京ビックサイトで開催される「Convertech JAPAN 2008(コンバーティング・テクノロジー総合展)」に出展します。
弊社ブースでは、さまざまな分野で利用される高機能性フィルムの光学特性評価装置を展示・紹介いたします。
ぜひ弊社ブース(I-66)にお立ち寄りください。
また、併催の「nano tech 2008」にも出展いたします。合わせてお立ち寄りください。
名   称 Convertech JAPAN 2008
(コンバーティング・テクノロジー総合展)
日   時

2008年2月13日(水)~15日(金)10:00 ~ 18:00  (最終日は17:00閉会)

会   場 東京国際展示場(東京ビッグサイト) 東3ホール
主   催 株式会社 加工技術研究会
併   催 nano tech 2008 ,ナノバイオ Expo 2008,ASTEC 2008,
METEC '08, 新機能性材料展 2008
nano week 2008
出展ブース「I-66」東3ホール

出展ブース「I-66」東3ホール
出展製品
【 IN LINE 】
  品質情報をリアルタイムで!
ライン計測システム
【IN LINE】品質情報をリアルタイムで! -ライン計測システム(トラバースタイプ)
弊社のコア技術である分光計測技術を最大限活用することで、製品品質の評価方法から製造ラインでの品質管理方法、さらに生産現場での用途や生産ライン状況に応じた最適な品質評価方法をご提案します。
(写真:トラバースタイプ)

システム 単一ポイント測定タイプ、トラバースタイプ、多ポイント測定タイプ
測定項目 透過率、反射率、膜厚、リタデーション、偏光度、軸検出、色度など
測定波長範囲 190nm ~ 2500nm
測定対象 AR(反射防止)フィルム、LR(低反射)フィルム、
偏光フィルム、位相差フィルム、包装用フィルム、
ガラス基板上塗布膜など
【 Re.評価 】
  0.1秒以下の速さで低Re.と主軸方位角の同時測定を実現!
● 低リタデーション測定装置 RE-100
【Re.評価】0.1秒以下の速さで低Re.と主軸方位角の同時測定を実現! -低リタデーション測定装置 RE-100
偏光計測モジュールを用いた計測システムです。低リタデーションサンプルのリタデーションおよび主軸方位角を同時にかつ高速で測定できます。形状がコンパクトであり、高速測定が可能なことから、フィルムや光学材料のインライン測定に最適です。

検出波長 550nm(他選択可能)
測定項目 リタデーション測定(測定範囲:0nm ~ 1μm)
主軸方位角度、楕円率・方位角、三次元屈折率など

【 膜厚評価 】
  多層膜の膜厚・膜質評価を高速・高精度で実現!
● 反射分光膜厚計 FE-3000
【膜厚評価装置】薄幕から圧膜まで高精度に測定 -反射分光膜厚計 FE-3000
マルチチャンネル検出器による高速性と、顕微光学系による多機能を付加した光干渉式膜厚測定システムです。紫外可視域から近赤外域までの顕微反射スペクトルにより、多層薄膜から厚膜まで幅広いレンジの膜厚測定を高速・高精度で実現します。半導体材料、FPD材料、光記憶材料、新機能性材料など、多様化する各種膜厚、膜質解析にお応えします。

測定膜厚範囲 1nm ~ 250μm
測定波長範囲 190nm ~ 1600nm
検出器 PDA、CCD、InGaAs
測定項目 多層膜厚解析、膜物性解析(k:消衰係数、n:屈折率)、
絶対反射率測定
【 表面電位 】
  表面改質評価や表面処理評価に最適!
●ゼータ電位・粒径測定システム ELSZ series
【ゼータ電位・粒子径測定】希薄溶液から濃厚溶液まで幅広い濃度範囲のゼータ電位・粒径を一台で測定可能 -ゼータ電位・粒径測定システム ELSZ series
従来からの希薄溶液に加え濃厚溶液でのゼータ電位・粒子径測定が可能です。
粒子径測定範囲も(0.6nm~7μm)、濃度範囲(0.001%~40%)に対応。装置も従来装置に比べコンパクトになり、取扱いが簡単な電気泳動セルにより操作性が向上しました。

ゼータ電位 -200 ~ 200mV
粒子径・粒度分布 0.6nm ~ 7μm
対応濃度範囲 0.001% ~ 40% *1
電気移動度 -10×10-4 ~ 10×10-4 cm2/s・V
*1(Latex115/262nm: 0.001 ~ 10%、タウロコール酸: ~ 40%)
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