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大塚電子 ニュース
AEC/APC Symposium Asia 2007 ネットワーキングセッション
無事終了いたしました。
多数のご来場を頂き、誠にありがとうございました

「AEC/APC Symposium Asia(AEC: Advanced Equipment Control / APC: Advanced Process Control)」は、 半導体メーカーと装置、材料、ソフトウエア、センサー、メトロロジーメーカーが一堂に会し、装置・プロセスの自動診断・最適化などを通じて、よりインテリジェントで高効率な生産システムの構築を議論する国際会議です。
併設の展示会は、フォーカスした領域の専門家にむけて、新しい技術、装置、システム技術をアピールする場として開催されます。弊社ブースでは、膜厚評価装置をはじめ、その他半導体関連装置をパネル展示にてご紹介いたします。 ぜひ弊社ブースへお立ち寄りください。
名 称

AEC/APC Symposium Asia 2007 ネットワーキングセッション

日 時 2007年11月29日(木)~30日(金)
会 場 ホテル日航熊本
主 催
 
ISMI : (International SEMATECH Manufacturing Initiative)
ISS : (INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING)
出展ブース「1009」
出展ブース図「ブースNO.1009」

パネル展示
【 膜厚測定 】
 マルチチャンネル検出器による高速性と、顕微光学系による多機能性を付加した光干渉式膜厚測定システム
●反射分光膜厚計 FE-3000
  広い波長域により多層薄膜から厚膜まで幅広いレンジの膜厚測定に対応
  高分解能検出器の採用により、厚膜にも対応。(膜厚測定範囲:0.8~250μm)
  顕微反射スペクトル測定により、測定を高速・高精度で実現
  大型ステージ、搬送システムにも対応可能

測定膜厚範囲 1nm ~ 250μm
測定波長範囲 190nm ~ 1600nm
検出器 PDA、CCD、InGaAs
測定項目 多層膜厚解析、膜物性解析(k:消衰係数、n:屈折率)、
絶対反射率測定
反射分光膜厚計 FE-3000

【 膜厚測定 】
  エリプソパラメータ測定、多層膜厚解析、光学定数解析などによリ、超薄膜の詳細な解析に対応
●分光エリプソメータ FE-5000
 紫外可視(250~800nm)の波長領域でのエリプソパラメータ測定に対応
 ナノメータオーダーの多層薄膜の膜厚解析が可能
  反射角度可変測定により、薄膜の詳細な解析に対応
  多層膜フィッティング解析による光学定数測定による膜厚・膜質管理が可能

測定膜厚範囲 0.1nm ~ 1μm
測定波長範囲 250nm ~ 800nm
検出器 電子冷却型一次元検出素子 512ch
測定項目 エリプソパラメータ(cosΔ,tanψ)
光学定数解析(k:消衰係数、n:屈折率)、膜厚解析
分光エリプソメータ FE-5000

【 FTIRガス分析装置 】
  現場で簡単に測定可能な高精度プロセス用ガス連続モニター
●工業用ガス分析装置 IG series
 現場で誰にでも簡単にガス成分分析が可能なプロセス用ガス連続モニター
 ■ 豊富なガスセルによりppbから%オーダーまで広い濃度範囲をカバー
 ■ エッチング装置のプロセス評価、CVDチェンバー内のクリーニングプロセスの
   最適化、除害装置の性能評価などに最適

測定波数範囲 700 cm-1~ 5000 cm-1
検出器 室温 DLaTGS、液体窒素冷却型 MCT、電子冷却型 InAs
測定項目 定性・定量解析、スペクトル解析
工業用ガス分析装置 IG series

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