展示会・セミナー
ピックアップ情報
イベント名 | Webセミナー【ウェーハおよびスラリーの静電相互作用の評価法と半導体プロセス技術の紹介】(2024年4月) | |
---|---|---|
開催日 | 4月17日(水) | |
会場 | Web(オンライン) | |
紹介文 | 半導体のCMP(研磨)プロセスにおける静電相互作用は、研磨レートやウェーハ表面の欠陥やパーティクルの発生に影響を与える。そこでスラリーの分散性やウェーハ表面のゼータ電位を測定することで、その吸着性や洗浄性などの静電相互作用の評価法をご紹介します。半導体プロセスにおけるウェーハの品質評価技術として、当社が提供する膜厚や表面構造の評価例を紹介します。 |
展示会・セミナー情報
開催日 | 展示会情報 | 会場 | |
---|---|---|---|
5月8日(水)~10日(金) | 【関西】フィルムテックジャパン | インテックス大阪 | |
6月13日(木)~15日(土) | みる・はかる・未来へつなぐ科学機器展 東海サイエンスパーク2024 | 名古屋国際会議場 | |
9月4日(水)~6日(金) | JASIS 2024 | 幕張メッセ | |
10月29日(火)~31日(木) | フィルムテックジャパン | 幕張メッセ | |
12月11日(水)~13日(金) | SEMICON JAPAN 2024 | 東京ビッグサイト |
開催日 | セミナー情報 | 会場 | |
---|---|---|---|
4月17日(水) | Webセミナー【ウェーハおよびスラリーの静電相互作用の評価法と半導体プロセス技術の紹介】(2024年4月) | Web(オンライン) | |
11月22日(金) | 第36回 散乱研究会 | 浅草橋ヒューリックホール |