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イベント名 Webセミナー【ウェーハおよびスラリーの静電相互作用の評価法と半導体プロセス技術の紹介】(2024年4月) セミナー
開催日 4月17日(水)
会場 Web(オンライン)
紹介文 半導体のCMP(研磨)プロセスにおける静電相互作用は、研磨レートやウェーハ表面の欠陥やパーティクルの発生に影響を与える。そこでスラリーの分散性やウェーハ表面のゼータ電位を測定することで、その吸着性や洗浄性などの静電相互作用の評価法をご紹介します。半導体プロセスにおけるウェーハの品質評価技術として、当社が提供する膜厚や表面構造の評価例を紹介します。

展示会・セミナー情報

開催日 展示会情報 会場  
5月8日(水)~10日(金) 【関西】フィルムテックジャパン インテックス大阪
6月13日(木)~15日(土) みる・はかる・未来へつなぐ科学機器展 東海サイエンスパーク2024 名古屋国際会議場
9月4日(水)~6日(金) JASIS 2024 幕張メッセ
10月29日(火)~31日(木) フィルムテックジャパン 幕張メッセ
12月11日(水)~13日(金) SEMICON JAPAN 2024 東京ビッグサイト
開催日 セミナー情報 会場  
4月17日(水) Webセミナー【ウェーハおよびスラリーの静電相互作用の評価法と半導体プロセス技術の紹介】(2024年4月) Web(オンライン) 詳細
11月22日(金) 第36回 散乱研究会 浅草橋ヒューリックホール

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