ホーム > 展示会・セミナー

展示会・セミナー

ピックアップ情報

イベント名 Webセミナー【光干渉法を原理とする膜厚測定装置を使いこなすためのノウハウ】(2024年3月) セミナー
開催日 3月28日(木)
会場 Web(オンライン)
紹介文 光を用いた各種分析装置を開発してきました大塚電子が、先端技術をサポートする分析装置と、その測定技術、応用例などについてWebセミナーを開催いたします。
ぜひ、ご参加ください。
イベント名 Webセミナー【ウェーハおよびスラリーの静電相互作用の評価法と半導体プロセス技術の紹介】(2024年4月) セミナー
開催日 4月17日(水)
会場 Web(オンライン)
紹介文 半導体のCMP(研磨)プロセスにおける静電相互作用は、研磨レートやウェーハ表面の欠陥やパーティクルの発生に影響を与える。そこでスラリーの分散性やウェーハ表面のゼータ電位を測定することで、その吸着性や洗浄性などの静電相互作用の評価法をご紹介します。半導体プロセスにおけるウェーハの品質評価技術として、当社が提供する膜厚や表面構造の評価例を紹介します。

展示会・セミナー情報

ページトップへ

X LinkdIn Youtube

大塚電子公式 SNS